Inpria公司获得融资 发展先进半导体材料

俄勒冈州的Inpria公司，在高分辨率的光致抗蚀剂的先驱，今天宣布，它已经收到470万美元融资。这一轮分别由三星风险投资公司，三星集团的全球投资机构，以及来自英特尔投资，英特尔公司的全球投资和并购的组织显著参与。现有的投资者应用风险投资公司，应用材料公司的风险投资部门，也参与了股权融资。
　　Inpria公司是商业化的冷凝分子氧化物组合，专为扩展摩尔定律，即有特点在半导体行业的进步了近50年的化工原料。重点是极紫外（EUV）光刻，Inpria专利的无机光致抗蚀剂在下面提供20nm的纳米级成像，使日益缩小的电子设备。该公司的产品组合还包括材料等新兴半导体图案的技术。
　　Inpria公司已经设置记录分辨率，线宽粗糙度（LWR）和蚀刻选择性，所有的关键指标，为下一代半导体器件的制造。“通过成像8纳米线，并与一个强大的图案化氧化1.5纳米的轻水堆空间，我们已经建立了对近期行业需求的先进光阻一个新的标准，”Inpria公司的首席执行官安德鲁·格伦维尔说。“这次融资使我们能够扩大我们的团队，加快产品开发，并在我们的商业化技术大规模一种很有前途的一步。”